在HDI盲孔電鍍方面，這就是一個困難度較高的電鍍了。因為盲孔的結構是屬于單邊開口，不論除膠渣、化學銅或導通化學品處理、電鍍制程，由于都是使用藥液處理，因此在藥液交換及液體潤濕（wetting）方面較為困難的狀況下，電鍍處理的難度都較為困難。一般業界公認的盲孔電鍍難度指標，原則上以縱橫比0.5為界線，高于0.5一般就被認為是較難達成的目標。

    當然設定這樣的參考指標，有其一定的背景原因。因為多數的HDI電路板廠仍然以傳統的垂直電鍍為主要的生產設備，因此垂直電鍍許多先天機械設計的限制，就會出現在高密度HDI電路板的制作規格上。

    傳統的垂直電鍍，主要的機械設計結構仍然以吊車、掛架、搖擺帶動等等機構為主體，因此在槽內的設計方面局限在陰陽極設計距離大、利用空氣攪拌沒有噴流機構的方式。這樣的方式對于單邊開口，需要大量新鮮藥液進入補充銅離子的盲孔電鍍而言，確實是一個大問題。垂直的電鍍設備機構，如圖6.1所示，是一個沒有沖擊噴流設計的設備。

圖6.1 一般傳統的線路電鍍設備

    因為設計復雜化又希望能夠簡化制作的程序來降低成本，因此在高密度HDI電路板的應用領域，有不少的跳層孔要進行電鍍。在高密度電路板制作方面，也因為需要更密的線路而必須要制作更小的盲孔，但是受限于絕緣性的問題樹脂厚度不能同步降低，這種種設計的趨勢都使得高密度HDI電路板的電鍍難度提高。

    目前有部分的電路板制作者進行垂直電路設備的改善，也有部分的業者為了同時解決薄板電鍍以及盲孔電鍍的問題，因此而采用了水平電路或是垂直傳動式的電鍍設備。這些設備的更修或是采用最主要的做法還是針對電鍍的死角盲孔，進行一些加強液體交換的結構設計。包括了噴流改善、縮小距離、改為不溶性陽極的設計、增加特殊夾具等的不同設備改善，這些不同設計的搭配組合可以強化盲孔電鍍的效果，增強較深盲孔以及薄內層板的電鍍能力。